真空系统、光学镀膜机、卷绕镀膜机、磁控溅射镀膜机
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磁控溅射是一门多用途的博膜沉积技术，运行压力在3SX103br范围内和且使用氩气作为反应气体，采用辉光放电或等离子体由一个专门设计的高负电压供电产生气体离子轰击靶材的表面，材料在氩离子的影响下从靶材中被溅射出来。
Ar气被用作反应气体，因为它属惰性气体，而且相对便宜。像○2和N2这样的气体也可以被充人井与溅射材料发生反应，主要用来镀氧化物和氮化物。额外的技术如等离子预处理系统用于特定应用的脉冲直流溅射。
主要用途
该设备是用磁控既射方法在塑料薄膜基材上镀制太阳控制膜、低辐射膜、T○透明导电膜等功能性膜层。主要用于汽车、火车、轮船等前挡及玻璃门窗的贴膜；建筑门窗及幕墙贴膜，防静电和电磁贴膜；装饰贴膜和包装膜，太阳能暖房贴膜；电加热器膜；防霜雾透明膜；液晶显示和场致发光显示用透明电极膜等。
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